Sketch to Drawio
以點陣草圖為構圖、模組和關係參考,用原生 draw.io 形狀、可編輯文字和獨立 SVG 圖示重繪學術論文插圖。草圖本身絕不作為背景或整圖嵌入最終產物。
輸入與輸出
輸入由使用者指定或在工作區發現:
- 草圖點陣圖(PNG/JPG,必須);
- 可選文字說明/spec 檔案(提供正式文字、資料、配色等時以其為準)。
輸出到使用者指定目錄,檔名按圖名 slug 派生(下例 slug 為 <fig>):
<fig>.drawio:可編輯原始檔(所有物件可編輯);<fig>.svg/<fig>.png:最終匯出(PNG 白底、適合論文/Word 插圖的清晰度);<fig>-icon-attribution.md:圖示來源與處理清單;<fig>-QC.md:品質檢查與待確認項;- 中間圖示檔案放在使用者指定的 reference 目錄。
工作流
- 讀圖分析:識別模組、標題、箭頭方向、容器階層;忽略草圖中的文字/數字/公式/浮水印(除非 spec 提供,否則用佔位符並記為待確認)。
- 元素規劃:為每個圖形元素確定功能語義,並先分類——簡單功能圖示(單一語義:車、檔案、盾、搜尋)還是複雜插畫/場景(多元素、裝飾性,如山路風景)——再按對應階梯處理。
- 原生重繪:用 draw.io XML 重建全部模組、容器、連線、文字;佈局從左到右或從上到下,閱讀順序明確。
- 導出自檢:導出 PNG 預覽並目檢(裁切、重疊、錯位、斷線、箭頭方向、字號、圖示一致性、顏色可區分性);純佈局問題直接改 XML 重導,直至通過。
- 交付台帳:寫出 attribution 與 QC 檔案,並在最終回覆中彙總全部
needs_user_confirmation項。
圖形元素處理優先級(每元素獨立判定)
簡單功能圖示走 A→B→C:
- A. 開源 SVG 優先:預設統一 Lucide 單色線性風格;不足時檢索 Iconify 開源圖示集(醫療/設備類優先 mdi、fluent)。同圖不混風格;記錄庫、名稱、授權、署名要求。檢索與下載機制見 references/icon-sourcing.md,下載用
scripts/fetch_icon.py。 - B. 找不到時描摹草圖圖示:裁切→清晰化(放大、降噪、去背景,不補造原圖不存在的細節)→vtracer/Inkscape 轉 SVG→優先按輪廓用幾何形狀重繪,無法重繪才插入獨立 SVG(不柵格化)。工具缺失時直接降 C 並記錄。判定與命令見 references/icon-tracing.md。
- C. 仍不可靠時保守通用形狀:不猜語義。資料→檔案/圓柱;處理→圓角矩形/齒輪;系統→容器/雲/伺服器;人員→人物輪廓;輸入/輸出→方向箭頭/檔框;完全不確定→無裝飾圓角矩形+清晰文字標籤;標題也不可靠→佔位文字
[需確認]。全部記為待確認項,分類標準見 references/qc.md。
複雜插畫/場景走 A′→B′→C′→D′→E,兩條原則:風格一致性優先於語義匹配;忠實原圖優先於重新構圖(重新構圖是「混亂感」的主要來源)。逐級降級、最後才用保底:
- A′. 同集組合插畫(首選,有品質門檻):用與全圖同一圖示集的多個元素 + z-order 遮擋構圖(如 Lucide
mountain-snow居後 +tree-pine×2 兩側 +route居前),可用圖內既有色板的 2–3 色做前後景分層。品質門檻:元素 ≤3 個、大小階層清晰、重疊克制;目標尺寸下仍顯混亂時最多修訂一輪即降級,不反覆打磨。 - B′. 原圖裁切 + 彩色描摹(「裁切高清化」的向量版):直接從草圖裁下插畫 → vtracer
--colormode color向量化 → 色板映射後目檢,保持全向量、忠實原圖構圖。 - C′. 原圖裁切 + 柵格高清化(裝飾補丁允許柵格):裁切 → 放大 2–4 倍 + 降噪 + 輕銳化(
scripts/embed_raster.py)→ PNG 包進 SVG<image>再 percent-encode 嵌入;只裁插畫不裁文字,解析度按顯示尺寸 ×2–3 準備。 - D′. 色板映射彩色集 / 原生形狀組合:選扁平幾何彩色集 + 色板映射(漸變系 emoji 貼紙風為反模式),或用基礎形狀拼簡化場景。
- E. 保底:單色線性圖示組合(如 Lucide route+cloud-sun),再不行才降 C 通用形狀。
詳細判定、命令與許可表見 references/illustrations.md。
圖示和插畫都是輔助元素,不得替代關鍵文字和邏輯關係。
學術圖約束
- 白底、3–5 種低飽和配色、統一線寬/圓角/箭頭樣式;預設按 A4 頁面寬度優化,縮小後標題與關鍵標籤仍可讀。
- 彩色插畫每張圖最多 1–2 處作視覺錨點,其餘元素保持單色線性;同圖不混風格對圖示與插畫同樣適用,風格不一致進 QC。
- 中文論文注意 CJK 字體在導出端的可用性(缺字會變成方框,自檢時必查)。
防虛構護欄
- 不得虛構研究流程、技術細節、變數、方法、結論或數值。
- 清晰化不得補造原圖不存在的細節;無法識別就降 C,不生成可能錯誤的新圖示。
- 凡語義判斷信心度低、文字/資料缺失、風格被覆蓋的地方,一律進 QC 待確認清單。
與其他 skill 的關係
draw.io XML 語法、形狀檢索、匯出 CLI 機制與故障排除複用 drawio-skill(headless 匯出用 xvfb-run -a drawio --no-sandbox ...;其 troubleshooting 覆蓋 root/無顯示等情形),本 skill 不重複這些機制。